
垂直腔面发射激光器(VCSEL)是一种光腔方向垂直于晶圆表面的半导体激光器,其光束从芯片上表面或下表面出射,而非从芯片侧边发光。这一结构上的差异带来了制造流程中的独特优势:在晶圆尚未切割成单颗芯片之前,就可以直接对每一个发光单元进行光电性能测试,从而实现早期的缺陷筛查和工艺监控。
在3D感测、车载激光雷达、光通信及消费电子近距离感测等应用中,VCSEL往往以单点、多点或二维阵列的形式使用,其一致性和可靠性直接关系到终端系统的性能表现。因此,建立一套覆盖晶圆级到量产阶段的光电参数测试体系,是保证产品质量和制造效率的核心环节。
VCSEL的结构特性使其在制造流程中具备独特的测试便利性。与边发射激光器不同,VCSEL的光束从芯片表面垂直出射,这意味着在晶圆尚未切割成单个芯片之前,就可以直接对每一个发光单元进行光电性能测试。
这一特性对大规模制造具有重要价值。晶圆级测试能够在封装之前就发现失效芯片、异常区域和工艺漂移,从而避免后续切割、贴装、键合、封装和老化测试等环节的无效投入。这种早期筛选能力对于控制制造成本、提高良率具有显著作用。
VCSEL的光电测试并非只是判断“能不能发光”,而是需要回答三个更关键的问题:器件是否达到设计要求,包括阈值电流、输出功率、中心波长和工作电压等指标是否在规格范围内;器件是否适合进入后续封装流程,是否存在异常漏电、早期热失控、功率突变、光斑畸变或阵列不均匀等现象;晶圆工艺是否稳定,外延片厚度、氧化孔径、电流限制结构、金属接触和刻蚀工艺是否在整片晶圆上保持一致。
因此,VCSEL测试通常围绕电学特性、光功率、光谱特性、空间光场分布和阵列一致性等维度展开。典型参数包括阈值电流、输出光功率、工作电压、L-I-V曲线、中心波长、远场光斑、发散角和阵列一致性。
在VCSEL的各类测试中,L-I-V是最基础也是最重要的项目。L代表输出光功率,I代表注入电流,V代表正向工作电压。L-I-V测试通过对VCSEL施加电流扫描,同时记录正向电压和输出光功率,从而获得器件的电光转换特性,常用于早期筛选不良器件。
一条典型的VCSEL L-I-V曲线可以分为三个区域:低电流区主要表现为自发辐射,输出光功率较低;达到阈值电流后,受激辐射占主导,输出光功率随电流快速上升;在较高电流区可能出现热翻转、斜率效率下降、功率饱和或曲线异常拐点等现象。通过L-I-V曲线可以提取阈值电流、斜率效率、工作电压、串联电阻、最大输出功率、功率线性度及异常拐点等关键指标。
阈值电流是VCSEL从自发辐射进入激光振荡状态所需的最小注入电流,是评价外延质量、腔体损耗、电流限制结构和有源区设计的重要指标。
在实际测试中,阈值电流可以通过几种方法提取。一种是在L-I曲线中观察光功率明显快速上升的转折点;另一种是对阈值以上的线性发光区进行拟合,并向低电流方向外推,与电流轴的交点作为阈值电流。在量产测试中,通常采用自动算法批量提取,并结合晶圆图分析整片晶圆上的空间分布。若某一区域的阈值电流整体偏高,可能意味着外延增益、DBR反射率、氧化孔径或工艺均匀性存在偏差。
输出光功率是VCSEL最直观的光学性能指标。对于3D感测或ToF应用,光功率关系到照射距离、信噪比和系统识别能力;对于光通信应用,输出功率直接影响链路预算和接收端裕量。
输出功率测试通常使用积分球、校准光电探测器或功率计完成。对于单点VCSEL,可以直接采集总光功率;对于VCSEL阵列,则需要关注整体输出功率和单个发光点之间的功率分布。测试时必须注意探测器的波长响应、光路收集角、积分球耦合效率和校准状态。若光收集不完整,测试结果会偏低;若探测器饱和,功率数据会失真。对于高功率VCSEL阵列,热效应还会导致输出功率随测试时间变化,因此短脉冲测试常被用于降低自热影响。
工作电压通常指在指定电流下VCSEL的正向电压,可以反映PN结特性、欧姆接触质量、串联电阻、金属互连和电流扩展情况。如果工作电压异常偏高,可能存在接触电阻过大、金属层异常、探针接触不良或电流限制结构异常等问题;如果工作电压异常偏低,则可能提示短路、漏电、工艺缺陷或器件结构异常。
在晶圆级测试中,电压参数通常会与光功率和阈值电流一起综合判断。单独的电压合格并不意味着器件整体合格,只有电学特性和光学输出同时满足要求,才说明器件具备进入后续流程的基础条件。
VCSEL的中心波长由有源区增益峰、腔体谐振条件和DBR结构共同决定。对于850nm、905nm、940nm等不同波段的VCSEL,中心波长是否落在目标窗口内,直接影响探测器的响应效率、光学滤波片的匹配程度、系统效率和法规安全设计。
中心波长通常通过光谱仪测试获得,需要在指定电流、温度和脉冲条件下记录光谱,并提取峰值波长、质心波长、光谱宽度和边模抑制比等信息。晶圆级波长分布还能反映外延厚度和腔长均匀性。若晶圆中心与边缘存在系统性波长偏移,往往与外延生长速率、温度场或材料组分分布有关,通过波长晶圆图可以更快定位外延和制程问题。
由于VCSEL从表面垂直出光,其光斑形态和发散角是重要的空间光学参数。VCSEL通常具有圆形、低发散的光束特性,并且适合二维阵列集成。
远场测试主要观察光束在角度空间中的能量分布。对于单点VCSEL,远场图可以反映模式分布、孔径设计和光束对称性;对于VCSEL阵列,远场图还会体现阵列排布、单元一致性和光学串扰等问题。发散角通常从远场光强分布中提取,例如使用半峰全宽或指定能量包络角进行定义。发散角过大可能导致光能利用率下降,发散角过小则可能对系统光学设计、眼安全和均匀照明提出更高要求。
在3D感测、结构光、ToF和LiDAR等应用中,VCSEL常以阵列形式工作。此时,单个发光点的合格并不足够,阵列内部的一致性同样重要。
阵列一致性通常包括几个方面:电学一致性,如不同发光点的阈值电流、工作电压和串联电阻是否一致;光功率一致性,如每个发光点输出是否均匀,是否存在暗点、弱点或热点;波长一致性,如阵列内部是否存在明显波长漂移;空间分布一致性,如远场光斑是否对称,阵列叠加光场是否符合设计要求。
阵列一致性差会直接引发系统级问题。例如,在3D感测中,照明不均会影响深度图质量;在LiDAR中,阵列发光不一致会影响测距稳定性;在光通信中,通道间差异会影响链路性能和校准复杂度。
VCSEL的表面出光结构使其天然适合晶圆级光电参数测试,这一优势让制造商能够在切割和封装之前完成快速筛选,显著降低后段制造成本并提升整体良率。
在所有测试项目中,L-I-V曲线是核心主线;阈值电流、输出光功率和工作电压反映器件的基本电光转换能力;中心波长连接外延工艺与应用规格;远场光斑和发散角决定光束质量;阵列一致性则直接关系到3D感测、LiDAR和光通信等系统级性能。对于VCSEL量产而言,测试不是制造流程的末端检查,而是贯穿研发、工艺优化、良率提升和质量追溯的关键环节。
来源:笑利芯语